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不同抛光磨头对烤瓷表面粗糙度的影响比较

任辉;宋昕;蔡晓彤;唐卫峰

摘要: 目的:比较釉瓷上釉和不同抛光磨头处理后,烤瓷表面粗糙度的不同,为临床选择抛光方法提供实验依据.方法:制作圆盘状瓷片60片,随机分为6组,每组10片.以釉瓷上釉作为对照组1组,第2组至第6组均分为绿砂石打磨A亚组及白砂石打磨B亚组.第2组只用打磨磨头处理;第3组打磨后使用松风CERAMISTE烤瓷抛光套装磨头抛光;第4组在第3组的基础上加用松风CERAMASTER精细烤瓷抛光磨头抛光;第5组打磨后使用德国固美烤瓷抛光套装磨头抛光;第6组使用德国EVE氧化锆抛光磨头抛光.对瓷片进行粗糙度值(轮廓算术平均偏差Ra)的测量,进行统计学分析,并采用扫描电镜对表面形态进行观察.结果:4B、5B、6A和6B组与1组Ra值无显著性差异(P>0.05),其余组的Ra值与1组有显著性差异(P<0.05).电镜下观察1组、4B、5B、6A和6B组瓷面较平整,其余组瓷面棱脊,凹坑较多,不平整.结论:使用砂粒较细的白砂石打磨烤瓷后,再使用抛光磨头能获得较好的抛光效果;含天然金刚石颗粒的抛光磨头能达到类似上釉的效果.

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